精密光學(xué)平臺的應(yīng)用選擇和要求
精密光學(xué)平臺分為兩大類:氣蘘減振及機械阻尼減振,氣蘘減振可獲得較低的頻率（0.7-3）Hz,機械阻尼減振效果稍遜(3-6)Hz所采用不同的方法減振效果也不同,在選擇光學(xué)平臺的時候要考慮所要求的光學(xué)平臺其減振性能與實驗采集數(shù)據(jù)的精密性相適應(yīng),儀器器件調(diào)試精密度與穩(wěn)定性能也直接影響數(shù)據(jù)的正常采集.光學(xué)平臺在整個實驗儀器器件中承擔(dān)的角色是承載、固定、排除減弱外界振源對儀器器件干擾，光學(xué)平臺的用途廣泛:以作為在光全息技術(shù),光譜實驗技術(shù),激光聚變技術(shù),現(xiàn)代光學(xué)技術(shù),精密檢測技術(shù),集成電子技術(shù),光纖通訊及醫(yī)療生物等現(xiàn)代科學(xué)研究工程中的基礎(chǔ)設(shè)備.鑒于光學(xué)平臺在實驗中的作用,因此要求制造的光學(xué)平臺具有剛度強、形變量小、承載能力大、減振效果好、對儀器器件的固定和保護(hù)還要求光學(xué)平臺的表面具有光潔、防腐、防銹、平整、方便固定器件.在材料選擇上采用強度較高的中碳鋼,平臺的表面則選用防腐、防銹的導(dǎo)磁不銹鋼.但在要求防電磁場干擾的情況下也全部采用不導(dǎo)磁不銹鋼。當(dāng)光學(xué)平臺作為科學(xué)研究的基礎(chǔ)設(shè)備時需要相對長的時間穩(wěn)定和瞬時快速采集數(shù)據(jù)所要求振動振幅,頻率(Hz).提高光學(xué)平臺所有技術(shù)指標(biāo)并不是唯一的選擇.外部壞境對光學(xué)平臺影響也是不可忽視的因素.

光學(xué)平臺種類
光學(xué)平臺的部件由主要兩部分組成:上部分光學(xué)平臺箱體、下部分連接光學(xué)平臺箱體的起調(diào)節(jié)、支撐和穩(wěn)定作用的腳.
從隔振方法上分

1. 氣蘘隔振:有內(nèi)置式與外露式;

內(nèi)置式是將氣蘘裝置在支撐腳內(nèi),外置式是氣蘘裸露在外.

1. 機械隔振:有機械彈簧隔振,氣動彈簧隔振;
2. 阻尼隔振:利用不同阻尼材料隔振;

從性能效果形式上分

1. 簡易型（又稱普通型）
2. 精密隔振型
3. 自動充氣型（又稱自動平衡）
4. 電動平移臺

光學(xué)平臺箱體
光學(xué)平臺的箱體要求制造精密、并要消除內(nèi)應(yīng)力已防止因應(yīng)力而產(chǎn)生形變,面板用高導(dǎo)磁不銹鋼材料，臺板精密制作，平面粗糙度0.4-0﹒8um并且光澤柔和。平面度＜0.05mm／㎡。面板的厚度6mm-12mm。M6.螺孔25×25等距制孔。箱體具有足夠的剛度。
支撐腳
支撐腳外形有方形和圓形，功能沒有區(qū)別，支撐腳內(nèi)置氣蘘。氣蘘與氣室之間有一小孔起阻尼作用，當(dāng)振源干擾平臺時氣蘘發(fā)生變形氣體通過小孔進(jìn)入氣室。使振動頻率降低。氣蘘內(nèi)壓大與小可影響振動頻率單位大小。支撐腳還承擔(dān)承載箱體儀器器件的重量并調(diào)節(jié)平臺的水平度。
特殊形狀的光學(xué)平臺
1．T字型
2．L字型
3．工字型
4．升降式型
5．雙層移動型
6.拼接型
普通光學(xué)平臺的技術(shù)指標(biāo)
1、平面度：0.02mm／㎡-0.05mm／㎡
2、粗糙度：0.4-0.8um
3、固有頻率：4Hz-6Hz
4、振幅：0.1um-0.5um
5、螺孔: M6
6、螺孔矩陣：25×25 50×50
7、高度：800mm
8、規(guī)格：（見例表）

氣墊隔振光學(xué)平臺技術(shù)指標(biāo)
1、平面度：0.02mm／㎡-0.05mm／㎡
2、粗糙度：0.4-0.8um
3、固有頻率：1.1Hz-2.8Hz
4、振幅：0.01um-0.1um
5、螺孔: M6
6、螺孔矩陣：25×25 50×50
7、高度：800mm
8、規(guī)格：（見例表）

自動平衡光學(xué)平臺技術(shù)指標(biāo)
1、平面度：0.02mm／㎡-0.05mm／㎡
2、粗糙度：0.4-0.8um
3、固有頻率：1.1Hz-2.8Hz
4、振幅：0.01um-0.1um
5、螺孔: M6
6、螺孔矩陣：25×25 50×50
7、高度：800mm
8、規(guī)格：（見例表）