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企業(yè)新聞

EUV或?qū)Q定半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)方向,通快加緊布局

星之球科技 來源:TRUMPF2017-10-09 我要評論(0 )   

近日,TRUMPF公司CTO及股東Peter Leibinger在談到令人著迷的激光創(chuàng)新時重點(diǎn)提及極紫外光刻,也就是我們常說的EUV。他認(rèn)為,EUV令人著迷的原因是其極富挑戰(zhàn)性及對世界的...

近日,TRUMPF公司CTO及股東Peter Leibinger在談到令人著迷的激光創(chuàng)新時重點(diǎn)提及極紫外光刻,也就是我們常說的EUV。他認(rèn)為,EUV令人著迷的原因是其極富挑戰(zhàn)性及對世界的重要影響。
Peter Leibinger
 
“如果我們無法實(shí)現(xiàn)EUV突破,摩爾定律將失效” Peter Leibinger表示:“其影響范圍不僅僅是芯片行業(yè),智能手機(jī)產(chǎn)業(yè)乃至整個電子裝備產(chǎn)業(yè)都將改變運(yùn)作方式。”

什么是EUV?
 
極紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography),常稱作EUV光刻,它以波長為10^-14nm的極紫外光作為光源的光刻技術(shù)。具體為采用波長為13.4nm 的軟x 射線。
在半導(dǎo)體芯片及集成電路制造領(lǐng)域,目前主要采用193nm浸沒光刻技術(shù)對晶片上的精細(xì)特征進(jìn)行圖案化。但是,193nm浸沒式光刻在80nm間距(40nm半間距)下達(dá)到極限。為此,從22nm / 20nm開始,芯片制造商開始使用193nm浸沒光刻以及各種多種圖案化技術(shù)。為了減小超過40nm的間距,多個圖案化涉及在晶圓廠中使用幾個光刻,蝕刻和沉積步驟的過程。
 
隨之而來的就是制程成本及周期時間的增長。為了解決這些問題,芯片廠商開始將目光轉(zhuǎn)向EUV光刻。
 
相對于193nm浸沒式光刻,EUV光刻可以提供更高的k1,在提供高分辨率的同時擁有較大的工藝窗口,從而減少光刻工藝復(fù)雜性。
 
正式基于這些優(yōu)勢,EUV吸引了芯片制造廠商及設(shè)備廠商的廣泛關(guān)注。三星公司表示,接下來的7nm工藝將采用EUV光刻。在英特爾方面,雖然還沒有明確EUV光刻導(dǎo)入時間,但是也將其作為未來重要制程技術(shù)之一。
 
在產(chǎn)生極紫外光的各種光刻工具里,激光器發(fā)揮重要作用。為此,TRUMPF公司在EUV領(lǐng)域重點(diǎn)投入。
 
與ASML公司建立合作關(guān)系
 
2015年ASML向TRUMPF公司訂購了15臺EUV光刻工具,而ASML則是全球EUV光刻領(lǐng)域領(lǐng)導(dǎo)者。TRUMPF公司也表示將積極布局極紫外激光器。
 
此外,TRUMPF公司也投資7000萬歐元在德國迪琴根建設(shè)一座占地34000平方米的工廠,主要用于生產(chǎn)極紫外光刻所需要的激光器產(chǎn)品。對于接下來即將出現(xiàn)的EUV訂單,TRUMPF公司充滿信心。
而ASML公司也預(yù)計其客戶將在2018至2019年后,開始將EUV光刻技術(shù)使用在芯片量產(chǎn)上。因此,在2020年前,第一批搭載以EUV光刻技術(shù)生產(chǎn)的芯片的電子裝備將上市。實(shí)際上,ASML公司接到的未出貨訂單已經(jīng)高達(dá)21臺。
 
另外,在柔性平板顯示屏制造中紫外激光器應(yīng)用需求也將進(jìn)一步增加,這些都是TRUMPF公司對于EUV重點(diǎn)投資的原因。

收購Access Laser公司完善布局
 
近日,通快公司宣布收購Access Laser公司85%股份。Access Laser公司主要生產(chǎn)高精密低功率CO2激光器用于極紫外光刻(EUV),這也是通快公司主要的投資方向之一。作為光源,該CO2激光器和通快激光放大器共同部署于EUV系統(tǒng)。通快公司表示,通過此次收購將整合EUV技術(shù)供應(yīng)鏈領(lǐng)域關(guān)鍵成員。
 
通快公司CTO及股東Peter Leibinger表示:“Access Laser是我們EUV業(yè)務(wù)的核心伙伴,一家富有創(chuàng)新力的激光企業(yè)。此次收購之后,兩家公司將更加緊密地合作以推進(jìn)EUV技術(shù)發(fā)展,服務(wù)更多的應(yīng)用及客戶。”
 
經(jīng)過多年的持續(xù)發(fā)展,EUV技術(shù)工藝逐漸成熟,這為公司銷售帶來很大促進(jìn)作用。Access Laser創(chuàng)始人及董事長張永方表示:“Access Laser一直富有創(chuàng)新精神。此次在EUV技術(shù)領(lǐng)域的合作,成功展現(xiàn)了Access Laser和TRUMPF兩家公司的協(xié)作關(guān)系。”
 
成立于1999年,Access Laser在美國和中國擁有超過60名員工。其產(chǎn)品包括輸出功率在10mW到50W之間,峰值功率高達(dá)1KW的精密激光器,應(yīng)用于醫(yī)學(xué)、電子及科研領(lǐng)域。此次收購價格,暫未對外公布。

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EUV極紫外光刻半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)
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