閱讀 | 訂閱
閱讀 | 訂閱
今日要聞

2020年德國未來獎頒給通快、蔡司和弗勞恩霍夫的EUV光刻開發(fā)人員

來源:ckcest2020-09-22 我要評論(0 )   

9月9日,德國聯(lián)邦總統(tǒng)辦公室在慕尼黑德意志博物館榮譽殿堂宣布了2020年德國未來獎提名人。聯(lián)邦總統(tǒng)技術(shù)與創(chuàng)新獎最后一輪項目是通快、蔡司和弗勞恩霍夫應(yīng)用光學(xué)與精密機...

9月9日,德國聯(lián)邦總統(tǒng)辦公室在慕尼黑德意志博物館榮譽殿堂宣布了2020年德國未來獎提名人。聯(lián)邦總統(tǒng)技術(shù)與創(chuàng)新獎最后一輪項目是通快、蔡司和弗勞恩霍夫應(yīng)用光學(xué)與精密機械研究所的專家團隊的項目“EUV光刻-數(shù)字時代的新光”。


世界上唯一的EUV光刻機制造商是荷蘭ASML公司,該公司作為集成商設(shè)計了整個系統(tǒng)的體系結(jié)構(gòu),尤其是EUV源。這些機器的關(guān)鍵部件是通快的EUV光源高性能激光器和蔡司的光學(xué)系統(tǒng)。EUV代表“極紫外線”,即具有極短波長的光。借助這項技術(shù),可以生產(chǎn)出比以往任何時候都更強大、更節(jié)能和更具成本效益的微芯片。如果不繼續(xù)保持強勁的計算能力,就不會成功實現(xiàn)數(shù)字化。最新一代芯片的制造過程是基于EUV燈的使用,它克服了以前在技術(shù)上可行的限制。從光源到真空中的光學(xué)系統(tǒng)再到所用反射鏡的表面涂層,實際上,整個曝光技術(shù)都必須從頭開始開發(fā)。


來自三家機構(gòu)的三名候選人為EUV技術(shù)的開發(fā)和工業(yè)批量生產(chǎn)做出了重大貢獻,獲得了2000多項專利保護的未來技術(shù)。


通快副總裁兼首席技術(shù)官Peter Leibinger:“對于德國未來獎的提名,我們感到非常高興。這再次證實了EUV技術(shù)的全球潛力。得益于與蔡司、弗勞恩霍夫和荷蘭技術(shù)集團ASML的合作,我們得以在這項未來技術(shù)上與來自日本和美國的德國和歐洲競爭對手競爭。世界上最好的制造微芯片的機器來自歐洲,這是我們共同撰寫的非凡故事。這種獨特合作成功的關(guān)鍵是相互信任和毅力?!?/p>


借助世界上最強大的脈沖工業(yè)激光器,通快為每個現(xiàn)代智能手機中使用的最現(xiàn)代微芯片的曝光提供了關(guān)鍵組件。除了產(chǎn)生雷射平版印刷術(shù)所需的光之外,沒有其他經(jīng)濟的替代方法。Leibinger:“只有通快可以制造EUV光刻所需的激光器。沒有這些激光器,諸如人工智能或自動駕駛之類的未來技術(shù)將無法實現(xiàn),因為它們需要大量的計算能力。激光60周年的德國未來獎提名再次強調(diào)了這種工具對于德國作為工業(yè)基地的重要性?!?/p>


“與我們的合作伙伴一起,我們對提名感到非常高興,該提名表彰了一項極其復(fù)雜的開發(fā)工作,并將其轉(zhuǎn)化為主導(dǎo)世界市場的技術(shù)?!?nbsp;蔡司集團執(zhí)行董事會成員兼半導(dǎo)體制造技術(shù)部門負責(zé)人Markus Weber說,“蔡司代表最高的光學(xué)性能和精度。這在芯片生產(chǎn)中一直很重要。EUV技術(shù)及其在真空中操作的反射鏡光學(xué)器件是一項飛躍性的創(chuàng)新,需要同等的創(chuàng)造力和持久性,才能從構(gòu)思到今天的系列使用。照明系統(tǒng)的質(zhì)量和形狀以及投影光學(xué)系統(tǒng)的分辨率決定了微芯片上的微小結(jié)構(gòu)。EUV繼續(xù)推動商業(yè)和社會數(shù)字化領(lǐng)域的巨大進步。”


由于即使最小的不規(guī)則性也會導(dǎo)致圖像錯誤,弗勞恩霍夫(Fraunhofer)是鏡子精密鍍膜技術(shù)的重要研究伙伴,為EUV光刻技術(shù)開發(fā)了世界上“最精確”的反射鏡。“Fraunhofer是半導(dǎo)體技術(shù)的先驅(qū)之一。我們在我們的研究所和設(shè)施中研究EUV光刻技術(shù)已有三十年了”。Fraunhofer-Gesellschaft總裁Reimund Neugebauer教授解釋說,“我們的研究人員在首批EUV反射鏡和光束源的開發(fā)中發(fā)揮了關(guān)鍵作用,從而為該技術(shù)的突破奠定了基礎(chǔ)。由于科學(xué)與工業(yè)之間的長期緊密合作,現(xiàn)已在全球范圍內(nèi)實現(xiàn)了在這一創(chuàng)新領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用的飛躍。EUV光刻技術(shù)是通過合作、研究精神和可持續(xù)承諾實現(xiàn)技術(shù)和經(jīng)濟附加值的杰出例子?!?/p>


自1997年以來,每年都會頒發(fā)“德國未來獎”,這是德國最重要的科學(xué)獎項之一。它表彰可產(chǎn)生現(xiàn)成產(chǎn)品的杰出技術(shù)、工程和科學(xué)成就。在一個多階段的過程中,德國未來獎的頂級評審團從眾多項目中選出了三個研究團隊及其創(chuàng)新,以作為最后一輪“最佳圈子”獎。除創(chuàng)新表現(xiàn)外,評審團還評估發(fā)展的經(jīng)濟和社會潛力。


關(guān)鍵詞:德國未來獎;通快;弗勞恩霍夫

原文鏈接:https://www.fraunhofer.de/de/presse/presseinformationen/2020/september/deutscher-zukunftspreis-euv.html

轉(zhuǎn)載請注明出處。

EUV德國未來獎光刻
免責(zé)聲明

① 凡本網(wǎng)未注明其他出處的作品,版權(quán)均屬于激光制造網(wǎng),未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用。獲本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使 用,并注明"來源:激光制造網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)責(zé)任。
② 凡本網(wǎng)注明其他來源的作品及圖片,均轉(zhuǎn)載自其它媒體,轉(zhuǎn)載目的在于傳遞更多信息,并不代表本媒贊同其觀點和對其真實性負責(zé),版權(quán)歸原作者所有,如有侵權(quán)請聯(lián)系我們刪除。
③ 任何單位或個人認為本網(wǎng)內(nèi)容可能涉嫌侵犯其合法權(quán)益,請及時向本網(wǎng)提出書面權(quán)利通知,并提供身份證明、權(quán)屬證明、具體鏈接(URL)及詳細侵權(quán)情況證明。本網(wǎng)在收到上述法律文件后,將會依法盡快移除相關(guān)涉嫌侵權(quán)的內(nèi)容。

網(wǎng)友點評
0相關(guān)評論
精彩導(dǎo)讀