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企業(yè)新聞

EUV光刻機(jī)市場(chǎng)需求強(qiáng)勁 ASML股價(jià)飆至歷史最高

Nick 來(lái)源:激光制造網(wǎng)2018-01-19 我要評(píng)論(0 )   

在荷蘭的EUV(極紫外光刻設(shè)備)巨頭ASML的股價(jià)上漲至歷史新高后,公布的2017年第四季度業(yè)績(jī)好于預(yù)期,而2018年前景也同樣樂(lè)觀。

ASML市值達(dá)到800億歐元

 

在荷蘭的EUV(極紫外光刻設(shè)備)巨頭ASML的股價(jià)上漲至歷史新高后,公布的2017年第四季度業(yè)績(jī)好于預(yù)期,而2018年前景也同樣樂(lè)觀。

 

因?yàn)锳SML首席執(zhí)行官Peter Wennink將半導(dǎo)體市場(chǎng)描述為“火爆異常”,ASML股票在納斯達(dá)克交易所上市前的交易中上漲了大約6%,漲至197.50美元。這是公司歷史上最高的估值,相當(dāng)于超過(guò)800億歐元的市值。

ASML stock price (past 10 years)

ASML過(guò)去十年來(lái)的股價(jià)走勢(shì)

 

“夢(mèng)幻的一年”

 

“總而言之,這是個(gè)夢(mèng)幻的一年”,Wennink在2017年描述,ASML第四季度銷售額接近26億歐元,比預(yù)期超出了約4億歐元,全年銷售額首次超過(guò)90億歐元。

 

銷售增長(zhǎng)部分原因是兩部EUV光刻設(shè)備的銷售訂單被客戶比預(yù)期更早地簽下,另外一部分原因是由于今年年底市場(chǎng)對(duì)更傳統(tǒng)的深紫外(DUV)光刻設(shè)備的額外需求。

 

之前將2016年稱為EUV“轉(zhuǎn)折的一年”的Wennink說(shuō),新設(shè)備在2017年滿足了一些重要的技術(shù)和商業(yè)目標(biāo),但是最重要的是新設(shè)備實(shí)現(xiàn)了每小時(shí)125個(gè)晶圓的吞吐量,工具可用性超過(guò)90%。

 

該公司首席執(zhí)行官評(píng)論道:“隨著EUV銷售額超過(guò)11億歐元,2017年是準(zhǔn)備將EUV引入大批量芯片生產(chǎn)的準(zhǔn)備工作的年份。”

 

他還透露說(shuō),ASML在2017年最后一個(gè)季度收到了另外10個(gè)EUV設(shè)備的訂單。這使得目前已經(jīng)積壓的EUV光刻設(shè)備訂單達(dá)到了28臺(tái),價(jià)值接近30億歐元。

 

ASML去年出貨了十臺(tái)EUV光刻設(shè)備,今年下半年新增產(chǎn)能將上調(diào)至預(yù)期的22臺(tái)。 Wennink表示,2018年將著于重后期發(fā)力,但將相比2017年的數(shù)字會(huì)有顯著上升,并補(bǔ)充說(shuō),雖然實(shí)際出貨數(shù)量將受限于EUV供應(yīng)鏈的產(chǎn)能,但是到2019年,出貨量將上升到至少30臺(tái)。

 

每臺(tái)EUV設(shè)備都基于大功率二氧化碳激光器和“觸發(fā)”激光器,在EUV源腔內(nèi)的錫液滴加工時(shí),產(chǎn)生寬帶發(fā)射光,此外還需要由鉆石制成的專業(yè)光學(xué)元件。

 

EUV production system

EUV光刻設(shè)備

 

市場(chǎng)已經(jīng)點(diǎn)燃

 

ASML的首席執(zhí)行官表示,更廣泛的半導(dǎo)體市場(chǎng)同樣十分火熱,邏輯和存儲(chǔ)芯片制造商的需求仍然非常強(qiáng)勁。他補(bǔ)充說(shuō),2018年將標(biāo)志著在7納米“節(jié)點(diǎn)”邏輯器件的生產(chǎn)量陡升的開始。

 

Wennink在今年的展望中補(bǔ)充道:“總體來(lái)看,這看上去非常積極。銷售額和凈利潤(rùn)都有望比2017年創(chuàng)紀(jì)錄的數(shù)據(jù)更上一層樓。

 

總體而言,2017年ASML年度凈利潤(rùn)同比增長(zhǎng)44%,達(dá)到21.2億歐元,同期銷售額同比增長(zhǎng)33%,達(dá)到90.5億歐元。

 

強(qiáng)勁的表現(xiàn)促使公司高層在ASML即將召開的年度股東大會(huì)上提出增加股東紅利。每股普通股1.40歐元,去年為1.20歐元,公司將向股東返還約6億歐元。



Source: Optics.org
Edition & Translation: Nick

 

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EUV光刻機(jī)極紫外光刻系統(tǒng)ASML
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