在半導體設備行業(yè)中，一家半導體設備廠商與另一家半導體設備廠商相互展開競賽，首先受益的自然會是下游的廠商們。一家半導體設備廠商若能積極地與另外一家或者多家半導體廠商展開同業(yè)競爭，這反倒很可能使得自身的實力更快地提升才對。

2017年12月7日，臺灣省DIGITIMES報導，近些年來，中國半導體設備行業(yè)一直在快速地進步。這會促使中國芯片設計與制造行業(yè)更好地發(fā)展。這里就還是引用DIGITIMES的一段原話，“半導體設備國產化是實現(xiàn)國產化芯片最關鍵的一役，近期包括北方華創(chuàng)、電科裝備集團分別在立式氧化爐、化學機械拋光設備皆相繼取得生產階段性突破，盡管面對國外廠家與競業(yè)興訴圍堵手段，國產設備廠商仍取得積極進展”。由北方華創(chuàng)旗下的北方華創(chuàng)微電子所研發(fā)的立式氧化爐THEORISO302已被上海中芯國際、華力分別批量地采用后，該款型設備近期還會被長江存儲用來生產首款3D NAND閃存芯片。中電科裝備研發(fā)的首臺CMP（化學機械拋光設備），在近期也已被中芯國際采用。

 

DIGITIMES還報導，不久前，美國MOCVD（金屬有機化合物氣相沉積設備）廠商Veeco向美國紐約東區(qū)法院提出針對SGL公司的一項禁令請求，要求該法院禁止SGL向包括中國半導體設備廠商中微半導體在內的廠商供應有著Veeco專利技術的石墨盤。

事實上，在MOCVD設備市場中僅有兩大廠商，一家是Veeco、另一家便是中微半導體。這兩家廠商在MOCVD設備市場中均占有一半的市占率。很顯然，Veeco此舉將使得中微在短時間內無法向SGL采購到足量的石墨盤，進而影響到中微繼續(xù)生產MOCVD設備，甚至還殃及到下游一部分LED芯片廠商。

一個好消息是，有媒體近日這樣報道，“2017年11月24日，國家知識產權局專利復審委作出審查決定，否決了‘Veeco上海公司’關于中微專利無效的申請，確認中微半導體起訴‘Veeco上海公司’專利侵權的涉案專利為有效專利”。該媒體也提到，“中微開發(fā)相關技術、并在一系列相關專利申請布局后數年，Veeco美國公司才隨之應用相同技術解決方案，在中微申請該涉案專利之后，Veeco美國公司針對該關鍵技術也提交了相近的專利申請，并使用于其EPIK 700產品上，由此侵犯了中微的專利權”。中微半導體作為國內半導體設備行業(yè)中的“領頭羊”，之前國際上的應用材料和科林研發(fā)等半導體設備廠商相繼與中微有過“交手”。

 

DIGITIMES引述半導體行業(yè)首席分析師顧文軍的話稱，“中微在關于Veeco與SGL的官司上，似乎暫時判決對中微半導體不利，也引起了業(yè)內對中微和LED公司的擔心，但很快就會有好消息，不必太過悲觀”。另有專業(yè)人士就此分析，Veeco與中微之間產生的這起“沖突”，很可能與Veeco已經布局MicroLED顯示行業(yè)有很大的關系。Veeco希望自己能比中微有更大的優(yōu)勢。

2017年11月1日，Veeco和ALLOS半導體（ALLOS Semiconductors）之間達成了一項戰(zhàn)略舉措，展示了200mm硅基氮化鎵晶圓用于藍/綠光micro-LED 的生產。Veeco和ALLOS合作將其專有外延技術轉移到 Propel單晶圓MOCVD系統(tǒng)，從而在現(xiàn)有的硅生產線上實現(xiàn)生產microLED。“和競爭對手的MOCVD系統(tǒng)相比， Veeco的TurboDisc技術提供的制程窗口更大，因此Propel能提一流的均勻性同時還能獲得優(yōu)良的膜品質。將Veeco領先的MOCVD專業(yè)技術和 ALLOS的硅基氮化鎵外延晶片技術相結合，使我們客戶能夠開發(fā)出低成本的micro-LED，以便于在新的市場中開拓新的應用。”Veeco高級副總裁兼MOCVD運營總經理Peo Hansson博士這樣說。