11月，中科院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所周常河研究員課題組成功研制出多路激光直寫裝置。該裝置采用405nm的藍(lán)光激光光源，尼康0.9數(shù)值孔徑的透鏡，以及自動(dòng)聚焦系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了25路高精度并行激光直寫，刻寫光斑的線寬小于600nm。相比于傳統(tǒng)激光直寫系統(tǒng)，該裝置在刻寫速度和效率方面有了很大的提高，幾十倍地縮短了激光直寫時(shí)間，可以快速制作大尺寸、高精度衍射光學(xué)元件。

激光束直寫技術(shù)是一種無需掩膜的光刻技術(shù)，基本工作原理是由計(jì)算機(jī)控制高精度激光束或樣品掃描，在光刻膠上或光敏材料上刻寫出掩膜圖形。傳統(tǒng)的激光直寫裝置由于受單路激光刻寫的限制，效率低，時(shí)間長，只能應(yīng)用于中、小尺寸光學(xué)器件的生產(chǎn)和制備。該裝置的成功研制，有可能為中國的半導(dǎo)體制造及大尺寸微納光學(xué)加工領(lǐng)域提供一種高性能、低成本的技術(shù)手段，同時(shí)，也將推動(dòng)我國在納米光刻，微納光學(xué)制造等領(lǐng)域的進(jìn)步，對(duì)于研制我國大科學(xué)工程、裝置以及天文、航天、航空、印刷等行業(yè)所需要的大尺寸光學(xué)元件，起到積極的推動(dòng)作用。