在曝光過程中，入射到掩模上的單脈沖能量密度可以通過調(diào)節(jié)準(zhǔn)分子激光器的放大器或諧振腔的電壓來控制。由于在振幅調(diào)制準(zhǔn)分子激光的照射下，摻氫增敏的商用摻鍺光纖纖芯折射率會(huì)發(fā)生周期性變化。傳播于其纖芯內(nèi)部的光將在特定波長附近與包層模耦合，在進(jìn)一步的傳輸中損耗。光纖Bragg光柵的生長特性用寬帶光源和光譜分析儀觀測(cè)透射譜的損耗峰進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。選用機(jī)械電子工業(yè)部第十三研究所研制的GXF001型摻鉺光纖放大器（EDFA）在0dBm輸入時(shí)ASE發(fā)射譜作為寬帶光源。波長范圍1530～1560nm，飽和輸出功率＞15dBm，輸入光功率-4～+7dBm，光功率輸出穩(wěn)定度＜+/-0.1dB。噪聲系數(shù)＜6（P_in=0dBm，P_out=16 dBm,@1550nm)。增益平坦度±0.5dB/nm（P_in＝0dBm）。當(dāng)泵浦功率40mW時(shí)，輸出光功率4.95mW。并采用Advantest Q8381型光纖光譜分析儀，工作波長范圍0.6～1.75nm,分辨率0.1nm。隨時(shí)觀測(cè)并記錄紫外寫入過程中光譜的變化，找出變化規(guī)律，得到形成光纖Bragg光柵的最佳條件。可以通過觀測(cè)光纖后透射光總強(qiáng)度來初步判定光纖Bragg光柵的形成情況，并確認(rèn)光纖光柵形成的最佳時(shí)機(jī)。
　　由于纖芯折射率的改變量與照射能量在一定范圍內(nèi)成線性關(guān)系。因此，通過延長曝光時(shí)間可以在一定程度上彌補(bǔ)吸收效率的不足。摸索最佳光纖增敏條件以及曝光強(qiáng)度和時(shí)間，保證光纖與光場(chǎng)干涉條紋嚴(yán)格垂直。同時(shí)，減小曝光中的微小震動(dòng)將有助于提高其反射率，降低反射半寬。
　　利用光纖光譜分析儀測(cè)試光纖Bragg光柵的透射光譜。可見光纖Bragg光柵已經(jīng)形成，并且發(fā)生了纖芯與包層之間的明顯能量傳遞。光纖Bragg光柵的反射率隨照射時(shí)間的增加而增大。達(dá)到一定值后，在一段時(shí)間內(nèi)維持不變。隨后再次隨照射時(shí)間的增加而增加，達(dá)到最大值后，反射率開始下降。由公式可推算出耦合系數(shù)k＝3.6×10²m^-1，折射率的實(shí)際變化量約為2×10^-4。
　　根據(jù)應(yīng)用項(xiàng)目的要求，所研制的光纖Bragg光柵結(jié)果如下：
　　1.用作摻鉺光纖激光器(EDFL)諧振腔的輸出選頻器，利用摻鉺光纖熒光譜的較平坦波段1540nm～1560nm作為發(fā)射譜，如圖4所示。光纖Bragg光柵透射譜如圖5(a)所示。光纖Bragg光柵峰值透射率為-5dB(反射率68%)，其中心波長1560.35nm，3dB帶寬為0.13nm。在大于1560nm波段，光纖Bragg光柵透射譜基線呈下降趨勢(shì)。這主要是由于熒光譜發(fā)射強(qiáng)度在大于1560nm波段下降所造成的。

　　2.用作密集波分復(fù)用的光纖Bragg光柵濾波器，其透射譜如圖5(b)(中心波長1559.84nm，帶寬0.399nm)和圖5(c)(中心波長1558.6nm, 帶寬為0.285nm)所示。光纖Bragg光柵峰值透射率均<-20dB(反射率>99%)。

　　3.用作EDFL諧振腔的全反射器，其透射譜如圖5(d)所示。光纖Bragg光柵峰值透射率<-20dB(反射率>99%)，中心波長1560.65nm，帶寬0.6nm。邊瓣得到充分抑制，且重復(fù)性良好。