光刻機是制作高精度掩模版的關鍵設備。使用極細的激光光束，在極其精密自動控制系統(tǒng)控制下于掩模版基材上繪制出高精密線路圖形。激光直寫是利用強度可變的激光束對基片表面的抗蝕材料（光刻膠）實施變劑量曝光，顯影后在抗蝕層表面形成所要求的浮雕輪廓。激光直寫光刻系統(tǒng)的基本工作原理是由計算機控制高精度激光束掃描，在光刻膠上直接曝光寫出所設計的任意圖形，從而把設計圖形直接轉(zhuǎn)移到掩模上。激光直寫光刻機是一種用于物理學、信息科學與系統(tǒng)科學、材料科學、機械工程領域的儀器，該設備是基于空間光調(diào)制器的直寫光刻設備，用于制作光刻掩膜。傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩膜板的設計通常需要經(jīng)常改變。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板的方法，克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。
2022年全球激光直寫光刻設備市場規(guī)模達到了113.42百萬美元，預計2029年將達到160.25百萬美元，2023-2029年復合增長率（CAGR）為5.21%。
地區(qū)層面來看，中國市場在過去幾年變化較快，2022年市場規(guī)模為17.32百萬美元，約占全球的15.27%，預計未來幾年增長較快，預計2029年將達到28.68百萬美元，2023-2029年復合增長率（CAGR）為7.91%，屆時全球占比將達到17.89%。從產(chǎn)品類型及技術方面來看，2022年2D系統(tǒng)銷量占據(jù)92.14%的比例，2022年銷量為213臺，預計2029年為328臺。3D系統(tǒng)預計銷量增速較快，3D系統(tǒng)2022年銷量為18臺，預計2029年為35臺。市場規(guī)模上看，2022年2D系統(tǒng)全球市場規(guī)模為101.20百萬美元，3D系統(tǒng)全球市場規(guī)模為12.22百萬美元。價格上看，2022年2D系統(tǒng)銷售均價為475千美元每臺，3D系統(tǒng)銷售均價為673千美元每臺，2022年激光直寫光刻設備均價為491千美元每臺。預計未來激光直寫光刻設備價格將呈現(xiàn)下降趨勢，預計2029年2D系統(tǒng)單價為423千美元每臺，3D系統(tǒng)單價為621千美元每臺，兩種類型激光直寫光刻設備價格均下降，但3D系統(tǒng)價格下降幅度相較之下略小。從產(chǎn)品市場應用情況來看，用于掩膜版制造的激光直寫光刻設備2022年銷售收入為35.25百萬美元，占比最高，其次是IC封裝、FPD制造、微機電和其他應用，分別為28.41 、25.84 、6.99 和16.93百萬美元，預計2029年這些應用端銷售收入分別為39.89 、35.61 、9.84 和24.45百萬美元，其中微機電和其他應用（如生物醫(yī)學、微制造等）增長較快，年復合增長率（CAGR）分別為5.53%和5.49%。目前全球主要廠商包括Heidelberg Instruments、Raith (4PICO Litho)、Mycronic、Ushio Inc.和SCREEN Holdings等，2022年前五大廠商銷售收入為65.12百萬美元，份額占比達到57.41%，預計未來幾年行業(yè)競爭將更加激烈，尤其在中國市場。總體來看，該行業(yè)屬于典型的技術密集型行業(yè)，資本投入大、研發(fā)周期長、人才稀缺都是其典型特點。從行業(yè)發(fā)展來說，激光直寫光刻設備當前趨勢較好，且替代掩膜版光刻設備優(yōu)勢大，市場空間較大。在國家層面而言，歐洲、日本、中國等是主要的生產(chǎn)國。從中國激光直寫光刻設備廠商發(fā)展而言，技術積累、人才儲備、客戶資源積累、銷售渠道拓展和自身宣傳等都是企業(yè)發(fā)展重要的影響因素，此外，企業(yè)也需要對上下游市場現(xiàn)狀有充分認識，如下游半導體、PCB等行業(yè)景氣度變化等因素，將是影響企業(yè)收入和利潤的重要因素。
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