1月30日,長(zhǎng)光華芯開工首日,一舉收獲三項(xiàng)國(guó)際發(fā)明專利授權(quán)通知,其中兩項(xiàng)來自美國(guó)專利局,一項(xiàng)來自日本專利局,成為長(zhǎng)光華芯布局海外知識(shí)產(chǎn)權(quán),打造科技核心競(jìng)爭(zhēng)力的良好開端。長(zhǎng)光華芯硬核開啟全球化新征程。
PCT 是一份擁有超過 155 個(gè)締約國(guó)的國(guó)際條約,是申請(qǐng)國(guó)外專利的主要途徑之一,必須經(jīng)過一系列嚴(yán)格的技術(shù)新穎性、創(chuàng)新性和實(shí)用性審查才能完成授權(quán),含金量極高。通過世界知識(shí)產(chǎn)權(quán)組織PCT體系提交的國(guó)際專利申請(qǐng)量是衡量全球創(chuàng)新活動(dòng)廣泛使用的指標(biāo)之一(長(zhǎng)光華芯申請(qǐng)PCT國(guó)際專利12項(xiàng),其中3項(xiàng)已獲得美國(guó)和日本授權(quán))。
01
一種多有源區(qū)級(jí)聯(lián)的半導(dǎo)體激光器
Multi-Active-Region Cascaded Semiconductor Laser
在激光雷達(dá)芯片方面,獲美國(guó)專利局授權(quán)的“一種多有源區(qū)級(jí)聯(lián)的半導(dǎo)體激光器”,通過在周期性增益結(jié)構(gòu)中增加更多的有源區(qū),提高了器件的內(nèi)量子效率,同時(shí)也降低了載流子的密度,從而獲得更多的增益。勢(shì)壘層連接不具有pn結(jié)特性,因此該層不會(huì)提高器件工作的開啟的電壓,同時(shí)外延生長(zhǎng)也較隧道結(jié)更簡(jiǎn)單。該專利為激光雷達(dá)芯片的新型結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),打破了國(guó)外激光雷達(dá)芯片結(jié)構(gòu)專利限制?;谠搶@夹g(shù),長(zhǎng)光華芯VCSEL陣列最高效率達(dá)到60%,打破了當(dāng)時(shí)最高光電轉(zhuǎn)換效率指標(biāo)紀(jì)錄。 該項(xiàng)專利成果于2021年取得中國(guó)授權(quán)后進(jìn)入美國(guó)申請(qǐng)專利,分別于2021年和2022年在全球光學(xué)盛會(huì)美國(guó)Photonics West世界光子學(xué)會(huì)議上做了報(bào)告。長(zhǎng)光華芯在激光雷達(dá)芯片方面一直堅(jiān)持自主創(chuàng)新的技術(shù)路線,圍繞激光雷達(dá)VCSEL芯片技術(shù)路線進(jìn)行了多項(xiàng)核心專利國(guó)際保護(hù)。 02 一種高功率半導(dǎo)體芯片及其制備方法 在高功率半導(dǎo)體激光芯片方面,獲日本專利局授權(quán)的“一種高功率半導(dǎo)體芯片及其制備方法”通過在波導(dǎo)內(nèi)設(shè)置側(cè)向光柵層,提高了高階光側(cè)向模式在波導(dǎo)內(nèi)的傳播損耗,達(dá)到了抑制高階光側(cè)向模式激射的目的;通過設(shè)置多組周期不同的光柵,抑制了由于單一光柵增益調(diào)制和折射率調(diào)制引起的強(qiáng)度振蕩光模式的激射,從而達(dá)到抑制側(cè)向光強(qiáng)度周期振蕩的作用,消除遠(yuǎn)場(chǎng)雙峰,降低激光器的側(cè)向發(fā)散角,且不對(duì)低階模產(chǎn)生影響,提高了芯片亮度。基于該專利技術(shù),長(zhǎng)光華芯芯片亮度達(dá)到100 MW/cm2sr,處于國(guó)際領(lǐng)先水平。 03 一種布拉格光柵外腔激光器模塊合束裝置及合束方法 Beam Combining Device and Beam Combining Method for Bragg Grating External-Cavity Laser 在光纖耦合模塊方面,獲美國(guó)專利局授權(quán)的“一種布拉格光柵外腔激光器模塊合束裝置及合束方法”,通過檢測(cè)和判斷形成閉環(huán)反饋,有效解決在外腔光柵光譜合束中因不同發(fā)光模塊光束指向性不同,鎖定波長(zhǎng)存在偏差造成的功率損失和合束輸出光光束質(zhì)量下降的問題,合束裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,判斷檢測(cè)快速,調(diào)整方便。 發(fā)明專利是企業(yè)科研創(chuàng)新硬實(shí)力的直接體現(xiàn)。近年來,通過研發(fā)技術(shù)創(chuàng)新、強(qiáng)化專利布局等一系列舉措, 長(zhǎng)光華芯的知識(shí)產(chǎn)權(quán)工作取得顯著成效,截至目前共計(jì)獲得授權(quán)專利130余項(xiàng),其中發(fā)明專利80余項(xiàng),順利通過知識(shí)產(chǎn)權(quán)管理體系認(rèn)證,專利數(shù)量和質(zhì)量同步提升,在2022年中國(guó)488家科創(chuàng)板上市企業(yè)有效發(fā)明專利排行榜中,長(zhǎng)光華芯位居第115位。國(guó)際發(fā)明專利授權(quán)意味著公司的相應(yīng)技術(shù)得到了國(guó)際認(rèn)可,長(zhǎng)光華芯在激光芯片領(lǐng)域的創(chuàng)新力和競(jìng)爭(zhēng)力已達(dá)國(guó)際先進(jìn)水平。 聚焦創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)引領(lǐng),增強(qiáng)科研攻關(guān)能力。未來,長(zhǎng)光華芯將繼續(xù)用創(chuàng)新能力為激光產(chǎn)業(yè)賦能,專注關(guān)鍵核心技術(shù)攻關(guān),建設(shè)高端人才隊(duì)伍,強(qiáng)化知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)和成果轉(zhuǎn)化工作,助力中國(guó)激光產(chǎn)業(yè)高速發(fā)展。中國(guó)激光芯,光耀美好生活。
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