中國微米納米技術(shù)學會消息顯示，近日，中國科學院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所張子旸研究員與國家納米中心劉前研究員合作，在Nano Letters上發(fā)表了研究論文，報道了一種他們開發(fā)的新型5 nm超高精度激光光刻加工方法。

據(jù)悉，研究團隊設計開發(fā)了一種新型三層堆疊薄膜結(jié)構(gòu)。在無機鈦膜光刻膠上，采用雙激光束交疊技術(shù)，通過精確控制能量密度及步長，實現(xiàn)了1/55衍射極限的突破，達到了最小5 nm的特征線寬。

圖片來源：中國微米納米技術(shù)學會

此外，研究團隊利用這種超分辨的激光直寫技術(shù)，實現(xiàn)了納米狹縫電極陣列結(jié)構(gòu)的大規(guī)模制備。同時，該團隊還利用發(fā)展的新技術(shù)制備出了納米狹縫電極為基本結(jié)構(gòu)的多維度可調(diào)的電控納米SERS傳感器。

值得一提的是，研究團隊所開發(fā)的具有完全知識產(chǎn)權(quán)的激光直寫設備，利用了激光與物質(zhì)的非線性相互作用來提高加工分辨率，其有別于傳統(tǒng)的縮短激光波長或增大數(shù)值孔徑的技術(shù)路徑；并打破了傳統(tǒng)激光直寫技術(shù)中受體材料為有機光刻膠的限制，可使用多種受體材料，極大地擴展了激光直寫的應用場景。

目前，該工作得到了國家重點研究計劃項目、國家自然科學基金、Eu-FP7項目、中國博士后科學基金的支持。