將超表面透鏡和MEMS技術相結合,或能為光學系統帶來高速掃描和增強的聚焦能力。
集成在MEMS掃描器上的基于超表面技術的平面透鏡(超級透鏡),左圖為掃描電鏡圖片,右圖為光學顯微成像圖片。在MEMS器件上集成超級透鏡,將有助于整合高速動態(tài)控制和精確波陣面空間控制優(yōu)勢,打造光控制新模型
目前,透鏡技術在各個領域都獲得了長足的發(fā)展,從數碼相機到高帶寬光纖,再到激光干涉儀引力波天文臺 LIGO的儀器設備等?,F在,利用標準的計算機芯片制造技術開發(fā)出了一種新的透鏡技術,或將替代傳統曲面透鏡復雜的多層結構和幾何結構。
與傳統曲面透鏡不同,基于超表面光學納米材料的平面透鏡相對更輕。當超表面亞波長納米結構形成某種重復圖紋時,它們便可以模仿能夠折射光線的復雜曲度,但是體積更小,聚光能力更強,同時還能減少失真。不過,大部分這種納米結構器件都是靜態(tài)的,功能性有限。
據麥姆斯咨詢報道,超級透鏡技術開拓者——美國哈佛大學應用物理學家Federico Capasso,和MEMS技術早期開發(fā)者——美國阿爾貢國家實驗室納米制造和器件小組負責人Daniel Lopez,他們倆來了一番頭腦風暴,為超級透鏡增加了運動控制能力,例如快速掃描和光束控制能力,或將開辟超級透鏡新應用。
Capasso和Lopez聯手開發(fā)了一款器件,在MEMS上集成了中紅外光譜超級透鏡。他們將該研究成果發(fā)表在了本周的《APL Photonics》期刊上。
MEMS是一種結合微電子和微機械的半導體技術,在計算機和智能手機中可以找到,包括傳感器、執(zhí)行器和微齒輪等機械微結構。MEMS現在幾乎無處不在,從智能手機到汽車安全氣囊、生物傳感器件以及光學器件等,MEMS可以借助典型計算機芯片中的半導體技術完成制造。
Lopez說:“在一個硅芯片上高密度集成數千個獨立控制的MEMS透鏡器件,可以實現光學領域前所未有的光控制和操作。”
研究人員在一塊SOI絕緣體上硅(2微米頂部器件層、200納米掩埋氧化層以及600微米襯底層)上,采用標準光刻技術制造了這款超表面透鏡。然后,他們將這款平面透鏡與一個MEMS掃描器(本質上是一個偏轉光線用于高速光路長度調制的微鏡)的中心平臺對齊,通過沉積微小鉑片將它們固定在一起,最終將該平面透鏡裝配在MEMS掃描器上。
“我們這款集成超表面透鏡的MEMS原型器件,可以通過電控制改變平面透鏡的旋轉角度,在幾度范圍內進行焦點掃描,” Lopez介紹說,“此外,這款集成超表面平面透鏡的MEMS掃描器概念驗證產品,還可以擴展至可見光及其它光譜范圍,開拓更廣泛的潛在應用,例如基于MEMS的顯微系統、全息和投影成像、LiDAR(激光雷達)掃描器和激光打印等。”
在靜電驅動情況下,其MEMS平臺可控制兩個正交軸方向的透鏡運動角度,使平面透鏡在每個方向約9度范圍內進行焦點掃描。 研究人員估計,其聚焦效率約為85%。
“這種超級透鏡在未來可以利用半導體技術實現大規(guī)模量產,或將在廣泛的應用領域替代傳統型透鏡,”Capasso補充說。