但就是這樣單價超1億美元的昂貴設(shè)備,他們卻不賣給中國!
網(wǎng)友@靚仔集團董事長說:全球就只有他家能生產(chǎn)的出來,沒有人做的出來。而且還不賣給中國。中國出多少錢都不賣。毛利1000%都可以。這個是在芯片里面畫電路的,都是幾納米,大概是頭發(fā)絲的萬分之一大小電路,你說牛B不。
到底是什么光刻設(shè)備這么牛,為什么又不能賣給中國呢?金粉們別急,咱們慢慢看:
對于普通人來說,光刻機或許是一個陌生的名詞,但它卻是制造大規(guī)模集成電路的核心裝備,每顆芯片誕生之初,都要經(jīng)過光刻技術(shù)的鍛造。
簡單地說,光刻機就是把工程師的設(shè)計‘印入’基底材料,其核心技術(shù)長期被荷蘭、日本、德國等把持。
光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機;有用于封裝的光刻機;還有用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。用于生產(chǎn)芯片的光刻機是中國在半導(dǎo)體設(shè)備制造上最大的短板,國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。
目前,光刻機領(lǐng)域的龍頭老大是荷蘭ASML,并已經(jīng)占據(jù)了高達(dá)80%的市場份額,壟斷了高端光刻機市場--最先進的EUV光刻機售價曾高達(dá)1億美元一臺,且全球僅僅ASML能夠生產(chǎn)。Intel、臺積電、三星都是它的股東,重金供養(yǎng)ASML,并且有技術(shù)人員駐廠,Intel、三星的14nm光刻機都是買自ASML,格羅方德、聯(lián)電以及中芯國際等晶圓廠的光刻機主要也是來自ASML。
阿斯麥公司ASML Holding NV創(chuàng)立于1984年,是從飛利浦獨立出來的一個半導(dǎo)體設(shè)備制造商。前稱ASM Lithography Holding N.V.,于2001年改為現(xiàn)用名,總部位于荷蘭費爾德霍芬,全職雇員12,168人,是一家半導(dǎo)體設(shè)備設(shè)計、制造及銷售公司。
阿斯麥公司為半導(dǎo)體生產(chǎn)商提供光刻機及相關(guān)服務(wù),TWINSCAN系列是目前世界上精度最高,生產(chǎn)效率最高,應(yīng)用最為廣泛的高端光刻機型。
目前全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商,都向ASML采購TWINSCAN機型,例如英特爾,三星,海力士,臺積電,聯(lián)電,格芯及其它半導(dǎo)體廠。隨著摩爾定律的發(fā)展,芯片走向了7nm以下,這就需要更高級的EUV光刻系統(tǒng),全球只有ASML的NXE:3400B能夠滿足需求。
未來,只有他的EUV光刻機能夠幫助芯片接續(xù)微縮,因此這些設(shè)備縱使賣到上億歐元,都能被客戶所接受。
作為集成電路制造過程中最核心的設(shè)備,光刻機至關(guān)重要,芯片廠商想要提升工藝制程,沒有它萬萬不行,中國半導(dǎo)體工藝為啥提升不上去,光刻機被禁售是一個主要因素。
這么昂貴的設(shè)備,為什么不賣給中國呢?這就要提到《瓦森納協(xié)定》。
《瓦森納協(xié)定》又稱瓦森納安排機制,全稱為《關(guān)于常規(guī)武器和兩用物品及技術(shù)出口控制的瓦森納安排》,目前共有包括美國、日本、英國、俄羅斯等40個成員國(注:沒有中國)。盡管“瓦森納安排”規(guī)定成員國自行決定是否發(fā)放敏感產(chǎn)品和技術(shù)的出口許可證,并在自愿基礎(chǔ)上向“安排”其他成員國通報有關(guān)信息。但“安排”實際上完全受美國控制。當(dāng)“瓦森納安排”某一國家擬向中國出口某項高技術(shù)時,美國甚至直接出面干涉,如捷克擬向中國出口“無源雷達(dá)設(shè)備”時,美便向捷克施加壓力,迫使捷克停止這項交易。
不過據(jù)說這個協(xié)定對中國也不是完全禁售,只是禁售最新的幾代設(shè)備。瓦森納協(xié)議每過幾年都會更新禁售列表,比如2010年90nm以下的設(shè)備都是不允許銷售的,到2015年就改成65nm以下的了。
光刻機被業(yè)界譽為集成電路產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠,研發(fā)的技術(shù)門檻和資金門檻非常高。也正是因此,能生產(chǎn)高端光刻機的廠商非常少,到最先進的14nm光刻機就只剩下ASML,日本佳能和尼康已經(jīng)基本放棄第六代EUV光刻機的研發(fā)。
相比之下,國內(nèi)光刻機廠商則顯得非常寒酸,處于技術(shù)領(lǐng)先的上海微電子裝備有限公司已量產(chǎn)的光刻機中性能最好的是90nm光刻機,制程上的差距就很大……國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。
這不僅使國內(nèi)晶圓廠要耗費巨資購買設(shè)備,對產(chǎn)業(yè)發(fā)展和自主技術(shù)的成長也帶來很大不利影響--ASML在向國內(nèi)晶圓廠出售光刻機時有保留條款,那就是禁止用ASML出售給國內(nèi)的光刻機給國內(nèi)自主CPU做代工--只要中芯國際、華力微等晶圓廠采購的ASML光刻機,雖然不影響給ARM芯片做代工,但卻不可能給龍芯、申威等自主CPU做代工、商業(yè)化量產(chǎn)。即便是用于科研和國防領(lǐng)域的小批量生產(chǎn),也存在一定風(fēng)險--采用陶瓷加固封裝、專供軍用的龍芯3A1500和在黨政軍市場使用的龍芯3A2000,只能是小批量生產(chǎn),而且在宣傳上也只能含糊其辭的說明是境內(nèi)流片……這很大程度上影響了自主技術(shù)和中國集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。
2016年,清華大學(xué)召開了“光刻機雙工件臺系統(tǒng)樣機研發(fā)”項目驗收會,專家組對項目任務(wù)完成情況予以高度評價,并一致同意該項目通過驗收。
工件臺系統(tǒng)是光刻機的重要子系統(tǒng),工件臺系統(tǒng)的運行速度、加速度、系統(tǒng)穩(wěn)定性和系統(tǒng)的定位建立時間對光刻機的生產(chǎn)精度和效率起著至關(guān)重要的作用。本次“光刻機雙工件臺系統(tǒng)樣機研發(fā)”項目驗收,標(biāo)志中國在雙工件臺系統(tǒng)上取得技術(shù)突破,但這僅僅是實現(xiàn)光刻機國產(chǎn)化萬里長征的一部分,距離打破ASML的技術(shù)壟斷還有很長的路要走。
日前,“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”國家科技重大專項實施管理辦公室組織專家,在中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所召開了“極紫外光刻關(guān)鍵技術(shù)研究”項目驗收會。評審專家組充分肯定了項目取得的一系列成果,一致同意項目通過驗收,認(rèn)為該項目的順利實施將我國極紫外光刻技術(shù)研發(fā)向前推進了重要一步。
極紫外光刻光學(xué)技術(shù)代表了當(dāng)前應(yīng)用光學(xué)發(fā)展最高水平,作為前瞻性EUV光刻關(guān)鍵技術(shù)研究,項目指標(biāo)要求高,技術(shù)難度大、瓶頸多,創(chuàng)新性高,同時國外技術(shù)封鎖嚴(yán)重。
因此我們看到,中國也是取得了很大的進步的。但是中國想要趕上,絕不是一朝一夕的事,需要各類基礎(chǔ)領(lǐng)域扎實的人才,這也是最難的。
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