光束整形（Beam Shaping）是一種利用光束控制技術(shù)來(lái)改變光束的形狀和特性的過(guò)程。隨著激光技術(shù)的不斷發(fā)展，激光的應(yīng)用也越來(lái)越廣泛，但是在半導(dǎo)體光刻、激光印刷、激光加工、光學(xué)信息處理等領(lǐng)域中，都對(duì)激光光束的均勻性有著一定的要求。然而激光器諧振腔輸出的光束呈高斯分布，這一特性使其往往不能被直接使用，需要通過(guò)光束整形來(lái)提高均勻性，以滿足應(yīng)用的需求。目前激光光束整形方法主要包括光闌法、場(chǎng)映射法和多孔徑光束聚焦法。光闌法（Aperture Method）是一種常見(jiàn)的光束整形方法，使用的是光闌來(lái)調(diào)整光束的形狀和大小。在光學(xué)設(shè)備中，光闌是一個(gè)用于限制和調(diào)整光束的物理孔徑或開(kāi)口。通過(guò)控制光闌的形狀和大小，可以調(diào)整光束的橫截面形狀和大小，從而達(dá)到特定的光學(xué)性能。例如，將光闌設(shè)置為圓形，可以得到一個(gè)圓形光束；將光闌設(shè)置為矩形，則可以得到一個(gè)矩形光束。在光闌法中，通常使用透鏡或聚焦器將光束聚焦到光闌上，調(diào)整光闌的位置和大小來(lái)實(shí)現(xiàn)所需的光束形狀和性能。光闌法可以用于激光微加工、光纖通信、光學(xué)傳感等領(lǐng)域，是一種簡(jiǎn)單有效的光束整形方法。場(chǎng)映射法（Field Mapping Method）是一種常用的光束整形方法，它通過(guò)在光學(xué)系統(tǒng)的傳輸路徑中使用特定的光學(xué)元件，如透鏡陣列或光柵陣列，來(lái)調(diào)整光束的形狀和分布。場(chǎng)映射法的基本原理是將輸入光束的場(chǎng)分布映射到輸出光束上，通過(guò)調(diào)整映射元件的參數(shù)，可以改變光束的橫截面形狀、尺寸和強(qiáng)度分布。在場(chǎng)映射法中，常用的光學(xué)元件包括透鏡陣列和光柵陣列。透鏡陣列可以用來(lái)調(diào)整光束的焦距和聚焦效果，從而改變光束的聚焦性質(zhì)。光柵陣列則可以用來(lái)分割光束和調(diào)整光束的相位分布，從而實(shí)現(xiàn)形狀和分布的變換。多孔徑光束聚焦法（Multi-aperture Beam Focusing Method）由微鏡陣列和聚焦元件組成，輸入光束首先被微鏡陣列分成若干子光束，再通過(guò)聚焦透鏡對(duì)子光束疊加輸出，以實(shí)現(xiàn)對(duì)光束的整形操作。這種方法適用于空間相干度較低的多模激光器，常用于光刻、激光加工和準(zhǔn)分子激光器的整形中。微鏡陣列材料易獲取，結(jié)構(gòu)緊湊、易于調(diào)整，能量損耗較低，在光束整形領(lǐng)域有很好的應(yīng)用。微鏡陣列有很多種類，常見(jiàn)的有正交光楔陣列、復(fù)眼透鏡陣列、微反射鏡陣列、可變焦微透鏡陣列等。微鏡陣列的整形效果受到很多因素制約。其中陣列個(gè)數(shù)的影響最大，通常，雙列微鏡系統(tǒng)的光束整形能力是優(yōu)于單列微鏡系統(tǒng)的，這是因?yàn)榈诙形㈢R會(huì)充當(dāng)場(chǎng)鏡陣列，使得入射光束經(jīng)過(guò)光學(xué)系統(tǒng)后，其輻照光斑的邊緣能量差異降低，進(jìn)而提高均勻性。這三種光束整形方法中，光闌法作為傳統(tǒng)光束整形技術(shù)具有原理簡(jiǎn)單、操作方便等優(yōu)點(diǎn)，但其會(huì)造成輸入光束的能量損失。場(chǎng)映射器法經(jīng)過(guò)嚴(yán)謹(jǐn)?shù)脑O(shè)計(jì)可以做到有效無(wú)損，特別適用于單模激光器的整形。多孔徑光束聚焦法中以 DMD 為代表的微反射陣列由于可主動(dòng)調(diào)節(jié)有著不錯(cuò)的發(fā)展前景。這些方法常用于激光加工、光通信、光刻、光學(xué)顯微鏡、光學(xué)測(cè)量和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，以滿足各種應(yīng)用的需求。具體選擇哪種方法取決于需要實(shí)現(xiàn)的光束整形效果、光源類型、工作波長(zhǎng)以及實(shí)際應(yīng)用場(chǎng)景。光研科技自主研發(fā)的光斑儀可實(shí)現(xiàn)激光光斑檢測(cè)及測(cè)試應(yīng)用，為客戶提供定制光束質(zhì)量分析一體化設(shè)計(jì)解決方案，并支持多應(yīng)用開(kāi)發(fā)。通過(guò)光束分析裝置一體化設(shè)計(jì)，配套衰減方案設(shè)計(jì)，支持實(shí)時(shí)曝光及增益調(diào)節(jié)。可根據(jù)客戶不同需求進(jìn)?模塊化定制，適用在半導(dǎo)體激光器，固體激光器，光纖激光器，超快激光器，激光測(cè)距等領(lǐng)域。目前已作為成熟產(chǎn)品在市場(chǎng)推廣，性價(jià)比很高，得到多個(gè)?業(yè)的客戶廣泛認(rèn)同。1，可選超寬光譜多波?系列產(chǎn)品，覆蓋紫外到?波紅外波?范圍。2，較寬的光斑直徑測(cè)量范圍：光斑直徑范圍可滿足目前市場(chǎng)大部分的光斑產(chǎn)品范圍，并支持更小光斑拓展。3，光束質(zhì)量分析儀一體化設(shè)計(jì)，配套衰減方案設(shè)計(jì)：設(shè)備自帶衰減裝置，可測(cè)毫瓦級(jí)低功率的激光，也可根據(jù)不同功率激光測(cè)試的需求，提供可選的衰減方案，無(wú)需準(zhǔn)備其他配件即可快速測(cè)量。4，軟件全自主開(kāi)發(fā)，可提供底層通訊協(xié)議。5，高性價(jià)比，可代替進(jìn)口激光光束質(zhì)量分析儀，實(shí)現(xiàn)激光光斑檢測(cè)及測(cè)試應(yīng)用.6，需求定制:可為客戶定制不同需求的光束質(zhì)量分析儀，不同的激光束直徑，激光功率等。
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