2月23日—27日，第39屆先進光刻技術(shù)會議（SPIE Advanced Lithography 2014）在美國加州圣荷西會展中心成功召開。大會由美國國際光電學(xué)工程協(xié)會（SPIE）主辦，會議期間，定向自組裝技術(shù)（DSA）、納米壓印技術(shù)、3D縮放工藝、 極紫外光刻技術(shù)（EUV）等方向的研究現(xiàn)狀及進展再次成為研究領(lǐng)域的熱門話題。 

      本屆展會內(nèi)容主要包括技術(shù)會議、行業(yè)研討、專業(yè)課程及的展覽會，共有包括研究人員、開發(fā)商、供應(yīng)商、風(fēng)險投資商、企業(yè)家在內(nèi)的2,360多名觀眾參展，比2013年增長約6%。近幾年持續(xù)增長的觀眾人數(shù)，也從側(cè)面反映了半導(dǎo)體行業(yè)良好的發(fā)展趨勢。

      此外，會議上還公布了三項SPIE光學(xué)大獎及榮譽，由前任國際光學(xué)工程學(xué)會主席Bill Arnold 頒發(fā)。獎項/榮譽及獲得者分別是：

      Frits Zernike獎 [縮微平版印刷（Microlithography）領(lǐng)域]
      獲得者：Mordy Rothschild
             麻省理工學(xué)院林肯實驗室（MIT Lincoln Laboratory）
      獲獎內(nèi)容：半導(dǎo)體光刻成像解決方案的開發(fā)成果

      Harold E. Edgerton獎
      獲得者：Martin Richardson
             美國中佛羅里達大學(xué)光學(xué)與光子學(xué)學(xué)院
            （CREOL, The College of Optics and Photonics, University of Central Florida）
      獲獎內(nèi)容：高速物理現(xiàn)象領(lǐng)域的研究成果

      國際光學(xué)工程學(xué)會會士（SPIE Fellow）
      獲得者：Frank Abboud
             英特爾公司(Intel)

      據(jù)悉，2015年SPIE先進光刻技術(shù)會議將于2月22日—26日在美國加州圣荷西會展中心舉行。屆時，將由來自ASML公司的Mircea Dusa博士擔(dān)任研討會共主席，聯(lián)合主席則由羅切斯特技術(shù)研究所的Bruce Smith教授擔(dān)任。所有會議論文經(jīng)批準(zhǔn)錄用后，將收錄至美國SPIE國際會議文集暨其數(shù)字圖書館中。