9月9日，德國聯(lián)邦總統(tǒng)辦公室公布了2020年德國未來獎（Deutscher Zukunftspreis 2020）入圍名單——一種利用極紫外光刻技術來提升微芯片生產(chǎn)水準的技術，蔡司、通快和來自耶拿的弗勞恩霍夫應用光學與精密機械研究所（Fraunhofer IOF）均參與了這項技術的研發(fā)工作。蔡司半導體事業(yè)部Peter Kürz博士、通快半導體制造激光系統(tǒng)有限責任公司Michael K?sters博士以及弗勞恩霍夫的Sergiy Yulin博士是該項目的主要負責人。

從左至右：Peter Kürz博士，Michael K?sters博士，Sergiy Yulin博士

世界上唯一的EUV光刻機制造商是荷蘭阿斯麥公司（ASML），該公司作為集成商設計了整個系統(tǒng)的體系結(jié)構(gòu)，尤其是EUV源。這些機器的關鍵部件是來自通快的高功率激光器（用于EUV光源）和蔡司的光學系統(tǒng)。EUV代表“極端紫外線”，即具有極短波長的光。利用這種技術，可以生產(chǎn)出比以往任何時候都更強大，更節(jié)能和更具成本效益的微芯片。畢竟，如果不進一步大幅提高計算能力，就無法實現(xiàn)成功的數(shù)字化。

如今，智能手機已經(jīng)具有1969年首次登陸月球時設備的數(shù)百萬倍的計算能力，僅僅是指尖大小的微芯片就可以做到這一點，這樣的微芯片包含超過100億個晶體管。最新一代芯片的生產(chǎn)是基于EUV燈的使用，它克服了以往技術上的限制。從光源到真空中的光學系統(tǒng)再到此過程中使用的反射鏡的表面涂層，實際上，整個曝光技術都必須從頭開發(fā)。

這三位候選人為EUV技術的發(fā)展和產(chǎn)業(yè)成熟做出了重大貢獻，他們獲得了2,000多項專利保護的技術，這是技術進步和日常生活數(shù)字化的基礎。通快集團管理委員會副主席兼首席技術官Peter Leibinger說：“我們對獲得德國未來獎的提名感到非常高興。它再次驗證了EUV技術未來發(fā)展的潛力。這歸功于我們與蔡司，弗勞恩霍夫和ASML公司的合作，在這一未來技術方面，我們能夠在德國和歐洲、日本和美國的企業(yè)進行競爭，而世界上最好的制造微芯片的機器來自歐洲這一事實是我們共同撰寫的傳奇。這種獨特合作的成功在于相互信任和持續(xù)努力?！?/p>

借助世界上目前最強大的脈沖工業(yè)激光器，通快為當下每一部智能手機中使用的最現(xiàn)代微芯片提供了關鍵組件。除了提供EUV光刻所需的光之外，該激光器目前沒有其他更為經(jīng)濟的應用。Leibinger對此評價道：“目前，只有通快能夠提供EUV光刻所需的激光器。沒有這些激光器，就無法實現(xiàn)諸如人工智能或自動駕駛這樣的未來技術，因為它們需要大量的計算能力。在這種情況下，會獲得提名也是實至名歸。在激光器誕生60周年之際，2020年德國未來獎的提名再次凸顯了激光這種工具對于德國作為工業(yè)基地的重要性?！?/p>

“我們非常榮幸能與合作伙伴一起獲得提名，這是一項極其復雜的開發(fā)工作，該技術將被轉(zhuǎn)化為主導全球市場的技術?！辈趟炯瘓F管理董事會成員兼半導體制造技術部門負責人Markus Weber博士繼續(xù)說：“蔡司代表著出色的光學性能和精度，這一直是芯片生產(chǎn)的關鍵因素。EUV技術及反射式光學系統(tǒng)是一種跨越式的創(chuàng)新，需要創(chuàng)意和毅力才能從構(gòu)思發(fā)展到今天的系列生產(chǎn)，照明系統(tǒng)的質(zhì)量和形狀以及投影光學系統(tǒng)的分辨率決定了微芯片上的微小結(jié)構(gòu)。EUV繼續(xù)推動商業(yè)和社會數(shù)字化領域的重大進步。很榮幸能與我們的戰(zhàn)略合作伙伴ASML、通快和弗勞恩霍夫一起為此做出貢獻?！?/p>

基本創(chuàng)新還取決于反射鏡，即使是最小的不規(guī)則性也會導致成像錯誤，因此EUV光刻技術還需要世界上“最精確”的反射鏡，弗勞恩霍夫是反射鏡鍍膜技術的重要研究合作伙伴。

“弗勞恩霍夫是半導體技術的先驅(qū)之一。我們的研究所和機構(gòu)已經(jīng)在EUV光刻領域進行了30年的研究探索。我們的研究人員在首批EUV反射鏡和光束源的開發(fā)中發(fā)揮了重要作用，為這項技術的突破奠定了基礎。”弗勞恩霍夫總裁Reimund Neugebauer教授解釋說：“得益于科學研究與工業(yè)應用之間的長期緊密合作，我們已成功實現(xiàn)了在這一創(chuàng)新領域的廣泛應用。EUV光刻是可以通過合作、研究精神和信守承諾等方式來實現(xiàn)技術和經(jīng)濟附加值的杰出典范?！?/p>

創(chuàng)新工程和科學成就獎

德國未來獎（Deutscher Zukunftspreis）自1997年誕生以來，每年頒發(fā)一次，是德國最重要的科學獎項之一。該年度獎項旨在表彰在科學領域取得突破性成果并實現(xiàn)這些新科學成果后續(xù)工業(yè)應用的創(chuàng)新團隊。評審團每年從大量項目中選出三個研究團隊，進入該獎項最后一輪進行角逐。除了創(chuàng)新表現(xiàn)，評審團還將評估經(jīng)濟和社會潛力。該獎項將于2020年11月25日在柏林由聯(lián)邦總統(tǒng)弗蘭克-瓦爾特·斯坦米爾（Frank-Walter Steinmeier）頒發(fā)。