激光電鍍技術是新興的高能束流電鍍技術，它針對的是微電子器件和大規(guī)模集成電路的生產(chǎn)和修補具有重大的意義。目前，雖然激光電鍍原理、激光消融、等離子激光沉積和激光噴射等方面還在研究之中，但其技術已得到初步應用。
激光加工新技術—激光電鍍技術
20世紀80年代又研究出一種激光噴射強化電鍍的新技術，將激光強化電鍍技術與電鍍液噴射結(jié)合起來，使激光與鍍液同步射向陰極表面，其傳遞介質(zhì)的速度大大超過激光照射所引起的微觀攪拌的傳質(zhì)速度，從而達到很高沉積速度。
當一種連續(xù)激光或脈沖激光照射在電鍍池中的陰極表面時，不僅能大大提高金屬的沉積速度，而且可用計算機控制激光束的運動軌跡而得到預期的復雜幾何圖形的無屏蔽鍍層。激光電鍍是古典工藝與現(xiàn)代技術相結(jié)合的一個典型，是一項新興的高能束流電鍍技術。
運用激光技術可提高金屬沉積速度，效率提高1000倍，當用一種連續(xù)激光或脈沖激光照射在電鍍池中的陰極表面時，不僅提高了沉積速度，而且可以用計算機控制激光束的運動軌跡而得到預期的復雜幾何圖形的無屏蔽鍍層。
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