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上海屹持光電技術(shù)有限公司

經(jīng)營(yíng)范圍包括從事光電產(chǎn)品、機(jī)電設(shè)備、機(jī)械產(chǎn)品、電子元器件、計(jì)算機(jī)網(wǎng)絡(luò)領(lǐng)域的技...

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法國(guó)Phasics SID4系列波前分析儀
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產(chǎn)品: 瀏覽次數(shù):573法國(guó)Phasics SID4系列波前分析儀 
品牌: Phasics
孔徑: 3.6 × 4.8 mm2
空間分辨率: 29.6 μm
采樣點(diǎn)/測(cè)量點(diǎn): 160 × 120
單價(jià): 300000.00元/臺(tái)
最小起訂量: 1 臺(tái)
供貨總量: 10 臺(tái)
發(fā)貨期限: 自買(mǎi)家付款之日起 30 天內(nèi)發(fā)貨
有效期至: 2024-03-12 [已過(guò)期]
最后更新: 2023-10-07 10:09
詳細(xì)信息

法國(guó)PhasicsSID4系列波前傳感器

                  -----四波橫向剪切干涉波前傳感器

 

產(chǎn)品介紹:法國(guó)PHASICS 的波前分析儀(上海屹持光電代理),基于其波前測(cè)量專(zhuān)利(專(zhuān)利號(hào)CN200780005898)——四波橫向剪切干涉技術(shù)(4-Wave Lateral Shearing Interferometry)。作為夏克-哈特曼技術(shù)的改進(jìn)型,這種獨(dú)特的專(zhuān)利技術(shù)將高分辨率和大動(dòng)態(tài)范圍很好地結(jié)合在一起。能實(shí)現(xiàn)全面、簡(jiǎn)便、快速的測(cè)量。

主要應(yīng)用領(lǐng)域:

1.       激光光束參數(shù)測(cè)量:相位(2D/3D),M2,束腰位置,直徑,澤尼克/勒讓德系數(shù)

2.       自適應(yīng)光學(xué):焦斑優(yōu)化,光束整形

3.       元器件表面質(zhì)量分析:表面質(zhì)量(RMS,PtV,WFE),曲率半徑

4.       光學(xué)系統(tǒng)質(zhì)量分析:MTF, PSF, EFL, 澤尼克系數(shù), 光學(xué)鏡頭/系統(tǒng)質(zhì)量控制

5.       熱成像分析,等離子體特征分析

6.       生物應(yīng)用:蛋白質(zhì)等組織定量相位成像

產(chǎn)品特點(diǎn):

1.       高分辨率:采樣點(diǎn)可達(dá)120000個(gè)

2.       可直接測(cè)量:消色差設(shè)計(jì),測(cè)量前無(wú)需再次對(duì)波長(zhǎng)校準(zhǔn)

3.       消色差:干涉和衍射對(duì)波長(zhǎng)相消

4.       高動(dòng)態(tài)范圍:高達(dá)500μm

5.       防震設(shè)計(jì),內(nèi)部光柵橫向剪切干涉,對(duì)實(shí)驗(yàn)條件要求簡(jiǎn)單,無(wú)需隔震平臺(tái)也可測(cè)試

 

 型號(hào)參數(shù):


型號(hào)

SID4

SID4-HR

SID4-DWIR

SID4-SWIR

SID4-NIR

SID4-UV-HR

SID4- UV

孔徑

3.6 × 4.8 mm2

8.9 × 11.8 mm2

13.44 × 10.08 mm2

9.6 × 7.68 mm2

3.6 × 4.8 mm2

13.6 ×10.96 mm2

8.0 × 8.0 mm2

空間分辨率

29.6 μm

29.6 μm

68 μm

120 μm

29.6 μm

40 μm

32 μm

采樣點(diǎn)/測(cè)量點(diǎn)

160 × 120

400 × 300

160 × 120

80 × 64

160 × 120

345 × 275

250 × 250

波長(zhǎng)

400nm~1100nm

400nm~1100nm

3~5μm,8~14 μm

0.9 ~ 1.7 μm

1.5 ~ 1.6 μm

190 ~ 400 nm

250 ~ 400 nm

動(dòng)態(tài)范圍

> 100 μm

> 500 μm

N/A

~ 100 μm

> 100 μm

> 200 μm

> 200 μm

精度

10 nm RMS

15 nm RMS

75 nm RMS

10 nm RMS

> 15 nm RMS

10 nm RMS

10 nm

靈敏度

< 2 nm RMS

< 2 nm RMS

< 25 nm RMS

3nm RMS(高增益)

<1nmRMS(低增益)

< 11 nm RMS

1nm RMS 
@250nm,2μJ/cm2

0.5 nm

采樣頻率

> 60 fps

> 10 fps

> 50 fps

25/30/50/60 fps

60 fps

30 fps

30 fps

處理頻率

10 Hz (高分辨率)

3 Hz (高分辨率)

20 Hz

> 10 Hz (高分辨率)

10 Hz

> 3 Hz (高分辨率)

1 Hz

尺寸

54×46×75.3mm

54×46×79mm

85×116×179mm

50×50×90mm

44×33×57.5mm

51 × 51 × 76 mm

95×105×84mm

重量

250 g

250 g

1.6 kg

300 g

250 g

300 g

900 g


四波橫向剪切干涉技術(shù)背景介紹

Phasics四波橫向剪切干涉(上海屹持光電代理):當(dāng)待測(cè)波前經(jīng)過(guò)波前分析儀時(shí),光波通過(guò)特制光柵(圖1)后得到一個(gè)與其自身有一定橫向位移的復(fù)制光束,此復(fù)制光波與待測(cè)光波發(fā)生干涉,形成橫向剪切干涉,兩者重合部位出現(xiàn)干涉條紋(圖2)。被測(cè)波前可能為平面波或者匯聚波,對(duì)于平面橫向剪切干涉,為被測(cè)波前在其自身平面內(nèi)發(fā)生微小位移發(fā)生微小位移產(chǎn)生一個(gè)復(fù)制光波;而對(duì)于匯聚橫向剪切干涉,復(fù)制光波由匯聚波繞其曲率中心轉(zhuǎn)動(dòng)產(chǎn)生。干涉條紋中包含有原始波前的差分信息,通過(guò)特定的分析和定量計(jì)算梳理(反傅里葉變換)可以再現(xiàn)原始波前(圖3)。

    

         圖1.特制光柵                                                                                              圖2.幾何光學(xué)描述波前畸變

 


圖3. 波前相位重構(gòu)示意圖

技術(shù)優(yōu)勢(shì)


1.       高采樣點(diǎn):

高達(dá)400*300個(gè)采樣點(diǎn),具備強(qiáng)大的局部畸變測(cè)試能力,降低測(cè)量不準(zhǔn)確性和噪聲;同時(shí)得到高精度強(qiáng)度分布圖。

2.       消色差:

干涉和衍射相結(jié)合抵消了波長(zhǎng)因子,干涉條紋間距與光柵間距完全相等。適應(yīng)于不多波長(zhǎng)光學(xué)測(cè)量且不需要重復(fù)校準(zhǔn),

3.       可直接測(cè)量高動(dòng)態(tài)范圍波前:

可見(jiàn)光波段可達(dá)500μm的高動(dòng)態(tài)范圍;可測(cè)試離焦量,大相差,非球面和復(fù)曲面等測(cè)。

 

               圖4.測(cè)試對(duì)比圖                                                圖5. 消色差                                               圖6.高動(dòng)態(tài)范圍測(cè)量

 

應(yīng)用方向:

1.       激光光束測(cè)量

可以實(shí)時(shí)測(cè)量強(qiáng)度相位(2D/3D)信息,Zernike/Legendre系數(shù),遠(yuǎn)場(chǎng),光束參數(shù),光束形狀M2等。


               

2光學(xué)測(cè)量

Phasics波前傳感器可對(duì)光學(xué)系統(tǒng)和元器件進(jìn)行透射和反射式測(cè)量,專(zhuān)業(yè)Kaleo軟件可分析PSF,MTF等

                              光學(xué)測(cè)量                                                                                           透射式和反射式測(cè)量


3.
光學(xué)整形:

利用Phasics波前傳感器檢測(cè)到精確的波前畸變信息,反饋給波前校正系統(tǒng)以補(bǔ)償待測(cè)波前的畸變,從而得到目標(biāo)波前相位分布和光束形狀。右圖上為把一束RMS=1.48λ的會(huì)聚光矯正為RMS=0.02λ的準(zhǔn)平面波;右圖下為把分散焦點(diǎn)光斑矯正為準(zhǔn)高斯光束。高頻率大氣湍流自適應(yīng)需要配合高頻波前分析儀。


  

4.光學(xué)表面測(cè)量:

  Phasics的SID4軟件可以直接測(cè)量PtV, RMS, WFE和曲率半徑等,可直接進(jìn)行自我校準(zhǔn),兩次測(cè)量相位作差等。非常方便應(yīng)用于平面球面等形貌測(cè)量。部分測(cè)量光路如右圖所示

 

5.等離子體測(cè)量

法國(guó)Phasics公司SID4系列等離子體分析儀(Plasma Diagnosis)是一款便攜式、高靈敏度、高精度的等離子體分析儀器。該產(chǎn)品可實(shí)時(shí)檢測(cè)激光產(chǎn)生的等離子體的電子密度、模式及傳播方式。監(jiān)測(cè)等離子體的產(chǎn)生、擴(kuò)散過(guò)程,以及等離子體的品質(zhì)因數(shù)。更好地為客戶(hù)在噴嘴設(shè)計(jì)、激光脈沖的照度、氣壓、均勻性等方面提供優(yōu)化的數(shù)據(jù)支持。

 

附:夏克哈特曼和四波橫向剪切干涉波前分析儀對(duì)比表


Phasics剪切干涉

夏克哈特曼

區(qū)別

技術(shù)

四波側(cè)向剪切干涉

夏克-哈特曼

PHASICS SID4是對(duì)夏克-哈特曼技術(shù)的改進(jìn),投放市場(chǎng)時(shí),已經(jīng)申請(qǐng)技術(shù)專(zhuān)利,全球售出超過(guò)500個(gè)探測(cè)器。

重建方式

傅里葉變換

分區(qū)方法(直接數(shù)值積分)或模式法(多項(xiàng)式擬合)

夏克-哈特曼波前探測(cè)器,以微透鏡單元區(qū)域的平均值來(lái)近似。對(duì)于大孔徑的透鏡單元,可能會(huì)增加信號(hào)誤差,在某些情況,產(chǎn)生嚴(yán)重影響。在分區(qū)方法中,邊界條件很重要。

光強(qiáng)度

由于采用傅里葉變換方法,測(cè)量對(duì)強(qiáng)度變化不敏感

由于需要測(cè)量焦點(diǎn)位置,測(cè)量對(duì)強(qiáng)度變化靈敏

關(guān)于測(cè)量精度,波前測(cè)量不依賴(lài)于光強(qiáng)度水平

使用、對(duì)準(zhǔn)方便

界面直觀,利用針孔進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)

安裝困難,需要精密的調(diào)節(jié)臺(tái)

SID4 產(chǎn)品使用方便

取樣(測(cè)量點(diǎn))

SID4-HR達(dá)300*400測(cè)量點(diǎn)

128*128測(cè)量點(diǎn)(微透鏡陣列)

SID4-HR具有很高的分辨率。這使得測(cè)量結(jié)果更可靠,也更穩(wěn)定

數(shù)值孔徑

SID4 HR NA:0.5

0.1

SID4-HR動(dòng)態(tài)范圍更高

空間分辨率

29.6μm

>100μm

SID4-HR空間分辨率更好

靈敏度

2nmRMS

約λ/100

SID4-HR具有更好的靈敏度

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